【6890】Ｊ－フェローテック
半導体シリコンウェーハ再生事業の設備投資の決定に関するお知らせ
2020-04-15(15:30)
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2020 年 4 月 15 日 各 位 会 社 名 株式会社フェローテックホールディングス 代表取締役社長 山 村 章
代 表 者 名
（ＪＡＳＤＡＱ・コード 問 合 わ せ 先 執行役員 IR 室長 佐
６８９０） 藤 昭 広
（ ０ ３ － ３ ２ ８ １ － ８ １ ８ ６ ）
半導体シリコンウェーハ再生事業の設備投資の決定に関するお知らせ
当社は、本日開催の取締役会において、下記の通り、中国における半導体シリコンウェーハ再生サービス事 業における設備投資について決議しましたので、以下の通りお知らせいたします。 記 １． 設備投資の決定に至る経緯および理由 当社は、2019 年 8 月 30 日付「中華人民共和国における半導体シリコンウェーハ再生事業の新会社設立に 関するお知らせ」にて公表しました通り、当社中国子会社の上海申和熱磁電子有限公司（以下、 「FTS」とい います。）と中華人民共和国安徽省銅陵市政府（以下、「銅陵市政府」といいます。）との共同出資で、半 導体シリコンウェーハの再生サービス事業参入のための新会社、安徽富楽徳長江半導体材料股份有限公司 （以下、「FTASM」といいます）を、安徽省銅陵市に設立しました。その後、社内にて本事業に関する精査を 行ってきた結果、今般下記の理由から本設備投資（第一期）を行うことを決定しました。 ＜投資決定に至った理由＞
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